特許

J-GLOBAL ID：200903007482456979

メタルマスクの製作方法

発明者： 松岡 敏治
出願人/特許権者： 株式会社健正堂
代理人 (4件)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次 ,  佐々井 克郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-215605
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314787
出願日： 2004年07月23日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】 低熱膨張率でメタルマスクの対角場所でも蒸着時加熱による位置ずれ、RGBの色のずれを生じない、有機ELの製造用蒸着マスクに適した寸法安定性のよいメタルマスク製法の提供。【解決手段】 低熱膨張率合金のプレートの一方の面に所定パターンのレジストを付け、該面のレジストで覆われていない面上に該低熱膨張率の金属又は合金の腐食液では腐食しない金属又は合金を、該プレート厚みに対し極薄い厚さの層にメッキし、反対側の面の該低熱膨張率合金を、該低熱膨張率合金の腐食液で、該腐食しない金属又は合金の薄い層が該一方の面に存在する部分に対応する該低熱膨張率の金属又は合金層の部分は、厚みが該低熱膨張率合金層のもとの厚みの0〜100%の範囲内になるように、そして該腐食しない金属又は合金の薄い層が該一方の面に存在しない部分に対応する該低熱膨張率合金層部分は該低熱膨張率合金が存在しなくなるよう腐食する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

低熱膨張率の金属又は合金のプレートの一方の面にレジストを付け所定のパターンに対応した原版をあて露光と現像をすることにより選択的に該所定パターンのレジストを付けた状態にする段階、 該一方の面の該所定のパターンのレジストで覆われていない面上に該低熱膨張率の金属又は合金の腐食液では腐食しない金属又は合金を、該プレートの厚みに対して極薄い厚さにメッキしてその腐食しない金属又は合金の薄い層を形成する段階、 該一方の面の反対側の面の該低熱膨張率の金属又は合金を、該低熱膨張率の金属又は合金の腐食液で、該腐食しない金属又は合金の薄い層が該一方の面に存在する部分に対応する該低熱膨張率の金属又は合金層の部分は厚みが該低熱膨張率の金属又は合金層のもとの厚みの0%乃至100%の範囲内の厚みになるように、そして該腐食しない金属又は合金の薄い層が該一方の面に存在しない部分に対応する該低熱膨張率の金属又は合金層の部分は該低熱膨張率の金属又は合金が存在しなくなるように、レジストでの被覆と適当なパターンの原版をあてた露光と現像とを利用して、腐食すると共に、不要となったレジストは除去する段階、 以上の段階を含むことからなるメタルマスクの製造方法。

IPC (3件)：

C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (5件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029HA02