特許
J-GLOBAL ID:200903007517203220
磁気記録媒体とその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上田 章三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-127725
公開番号(公開出願番号):特開平5-325164
出願日: 1992年05月20日
公開日(公表日): 1993年12月10日
要約:
【要約】【目的】 エラーレートが9以上に改善されると共に製造コストの低減も図れる磁気記録媒体とその製造方法を提供すること。【構成】 基板1上に下地層3を介して磁気記録層4を備える磁気記録媒体であって、上記下地層3が膜厚200〜600Åのクロム薄膜にて構成され、かつ、磁気記録層4が8〜15原子%のクロムと0.5〜5原子%のタンタルと残部コバルトから成るCoCrTa系合金にて構成されると共にディスクの半径方向における保磁力の値と周方向における保磁力の値の比(HcR)が1.3〜1.7に設定されていることを特徴とする。また、この磁気記録媒体を製造するには、上記クロム薄膜から成る下地層をスパッタリング成膜する際のアルゴンガス圧を6〜22 mTorrに設定し、かつ、膜厚を200〜600Å設定することを特徴とする。
請求項(抜粋):
非磁性基板上に下地層を介し磁気記録層を備える磁気記録媒体において、上記下地層が膜厚200〜600Åのクロム薄膜にて構成され、かつ、上記磁気記録層が8〜15原子%のクロムと0.5〜5原子%のタンタルと残部コバルトから成るCoCrTa系合金にて構成されていると共に、記録方向と直角の方向における保磁力の値と上記記録方向における保磁力の値の比(HcR)が1.3〜1.7に設定されていることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (3件):
G11B 5/66
, G11B 5/85
, H01F 10/16
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