特許

J-GLOBAL ID：200903007519724456

ナノ構造体の生成方法及び装置

発明者： アブレウ アブレウ ラウル アントニオ ,  ワトソン ジェレミー ダニエル マッケンドリック
出願人/特許権者： エドワーズ リミテッド
代理人 (5件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  宍戸 嘉一 ,  弟子丸 健 ,  井野 砂里
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-522038
公開番号（公開出願番号）：特表2009-502702
出願日： 2006年07月06日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：

【課題】ナノ構造体の生成方法及び装置を提供する。【解決手段】ナノ構造体の生成方法は、ナノ構造体を生成するためにナノ構造体の成分を含むガスを一つ以上の中空陰極反応装置に通す段階と、ナノ構造体を収集し、次いで副産物を、酸化ガスと一緒に一つ以上の中空陰極反応装置に通して排気ガスから除去する段階と、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ナノ構造体を生成する方法であって、 ハウジング内にガス流を形成するためにナノ構造体の成分を含むガスをハウジングに運ぶ段階と、 酸素含有ガスをハウジングの中へ運ぶ段階と、 ハウジング内で、 ガス流内に含まれた成分からナノ構造体を生成する段階、 生成されたナノ構造体を後続の収集のためにガス流から分離する段階、 副産物を酸素含有ガスと反応させることによってナノ構造体生成の副産物をガス流から除去する段階、 を行う段階と、 ガス流をハウジングから排気する段階と、 を含む、上記方法。

IPC (2件)：

C01B 31/02 ,  B82B 3/00

FI (2件)：

C01B31/02 101F ,  B82B3/00

Fターム (20件)：

4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146BA08 ,  4G146BA09 ,  4G146BA11 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BC09 ,  4G146BC16 ,  4G146BC23 ,  4G146BC24 ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146BC48 ,  4G146CA03 ,  4G146CA20 ,  4G146DA03 ,  4G146DA45 ,  4G146DA48