特許
J-GLOBAL ID:200903007524164060

薄膜回路基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-284954
公開番号(公開出願番号):特開平8-148795
出願日: 1994年11月18日
公開日(公表日): 1996年06月07日
要約:
【要約】【目的】 低コストで、少ない工程で得られるMIM型薄膜キャパシタを内蔵する薄膜回路基板の提供。【構成】 薄膜キャパシタを内蔵する薄膜回路基板において、前記薄膜キャパシタの誘電体層4を、前記薄膜キャパシタの電極3、5外に拡げて、下部金属パターン3と上部金属パターン5間を導通接続する部分を除いて、前記薄膜回路基板全体に被覆する。
請求項(抜粋):
薄膜キャパシタを内蔵する薄膜回路基板において、前記薄膜キャパシタの誘電体層を、前記薄膜キャパシタの電極外に拡げて、下部金属パターンと上部金属パターン間を導通接続する部分を除いて、前記薄膜回路基板全体に被覆することを特徴とする薄膜回路基板。
IPC (2件):
H05K 1/16 ,  H05K 3/46

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