特許
J-GLOBAL ID：200903007526933400
低酸素雰囲気はんだ付け装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小林 将高
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-353879
公開番号（公開出願番号）：特開平7-001113
出願日： 1992年12月16日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：
【要約】【目的】 チャンバ内を安定した低酸素の状態に保持できる低酸素雰囲気はんだ付け装置を提供する。【構成】 チャンバ2内にワーク3のコンベヤ4とはんだ槽8とを設け、また、チャンバ2内の不活性ガスの流出と対流とを抑制する仕切板9をワーク3の搬送方向に対して所要の間隔で設け、さらに、はんだ槽8でワーク3がはんだ付けを終了した後の位置の仕切板9と仕切板9との間に、不活性ガス供給ノズル10を設けて不活性ガス供給室13を形成し、安定して不活性ガスの供給を行うことにより低酸素雰囲気を得ることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
チャンバ内にワークを搬送するコンベヤとはんだ付け部とが備えられ、前記チャンバ内の不活性ガスの流出と乱流とを抑制するため、前記チャンバに前記コンベヤが貫通する入口部と出口部とを狭くする複数枚の仕切板が前記ワークの搬送方向に対して所要の間隔で順次設けられ、前記チャンバ内が不活性ガスにより保持された低酸素雰囲気中で、前記ワークにはんだ付けを行う低酸素雰囲気はんだ付け装置において、前記はんだ付け部で前記ワークのはんだ付けが終了する位置から後方の位置に前記不活性ガスの供給を行う不活性ガス供給ノズルが設けられたことを特徴とする低酸素雰囲気はんだ付け装置。
IPC (3件)：
B23K 1/08 320
, B23K 31/02 310
, H05K 3/34 507
