特許
J-GLOBAL ID：200903007527963079
縦型気相成長装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-271094
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139028
出願日： 1994年11月04日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】基板の大きさによらず位置精度を高くしつつ基板搬送するための治具を備えた縦型気相成長装置を提供する。【構成】本発明の装置では、反応管1内に挿入され反応管内で回転する支持棒10と、支持棒に保持され被成長基板8を主面を下方に向けて保持する基板保持治具9を備え、被成長基板の搬送には別室で被成長基板を基板保持治具に保持してから反応室に移動し支持棒に設けられた基板保持治具受け部25に保持できるように基板保持治具を用い、基板保持治具9は、被誘導加熱体7が入ることが可能な筒状の本体9aと、本体の下部に設けられ回転する支持棒の軸方向に直角に突出して主面を下方に向けた被成長基板の周辺部を保持する複数個の平坦なまたは断部16を有する基板保持爪12と、本体上部に設けられ支持棒の基板保持治具受け部と係合される本体の外径よりも大きな保持用リング部26とを有し、支持棒に対して着脱可能である。
請求項（抜粋）：
反応室内に設置され、反応ガスを下部から導入して上部に排出する縦型反応管と、該反応管内において主面を下方に向けた被成長基板の裏面上に積載される被誘導加熱体とを有し、高周波誘導加熱方式を用いて結晶成長を行なう縦型気相成長装置において、前記反応管内に挿入され反応管内で回転する支持棒と、該支持棒に保持され前記被成長基板を主面を下方に向けて保持する基板保持治具とを備え、被成長基板の搬送には別室で被成長基板を基板保持治具に保持してから反応室に移動し、支持棒に設けられた基板保持治具受け部に保持できるように基板保持治具を用い、前記基板保持治具は、前記被誘導加熱体が入ることが可能な筒状の本体と、該本体の下部に設けられ前記回転する支持棒の軸方向に直角に突出して主面を下方に向けた被成長基板の周辺部を保持する複数個の平坦なまたは断部を有する基板保持爪と、本体上部に設けられ前記支持棒の基板保持治具受け部と係合される本体の外径よりも大きな保持用リング部とを有し、前記支持棒に対して着脱可能であることを特徴とする縦型気相成長装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C30B 25/12
, H01L 21/31
