特許
J-GLOBAL ID:200903007530073076

レーザ溶接ヘッド制御システムおよびこれを具えるレーザ溶接ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 暁秀 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-138283
公開番号(公開出願番号):特開2001-321971
出願日: 2000年05月11日
公開日(公表日): 2001年11月20日
要約:
【要約】【課題】 簡単な構造のレーザ溶接ヘッド制御システムを提供する。【解決手段】 溶接部材表面にライン状に測定用レーザ光を所定の角度で投射する少なくとも2個の半導体レーザと、前記測定用レーザ光の波長のみを透過するバンドパスフィルタと、前記バンドパスフィルタを通して前記測定用レーザ光を撮影するCCDカメラと、前記CCDカメラが撮影した前記測定用レーザ光の画像を画像処理し、溶接面の状態を決定する画像処理手段とを具え、決定された前記溶接面の状態に基づいて前記レーザ溶接ヘッドの姿勢を制御する。
請求項(抜粋):
レーザ溶接ヘッドの姿勢を制御するシステムにおいて、溶接部材表面にライン状に測定用レーザ光を所定の角度で投射する少なくとも2個の半導体レーザと、前記測定用レーザ光の波長のみを透過するバンドパスフィルタと、前記バンドパスフィルタを通して前記測定用レーザ光を撮影するCCDカメラと、前記CCDカメラが撮影した前記測定用レーザ光の画像を画像処理し、溶接面の状態を決定する画像処理手段とを具え、決定された前記溶接面の状態に基づいて前記レーザ溶接ヘッドの姿勢を制御することを特徴とするレーザ溶接ヘッド制御システム。
IPC (6件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  B23K 26/06 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/02 ,  G01B 11/24
FI (6件):
B23K 26/00 M ,  B23K 26/02 C ,  B23K 26/06 A ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/02 H ,  G01B 11/24 K
Fターム (30件):
2F065AA01 ,  2F065AA15 ,  2F065AA24 ,  2F065AA35 ,  2F065AA49 ,  2F065AA52 ,  2F065AA67 ,  2F065BB05 ,  2F065BB29 ,  2F065CC15 ,  2F065DD02 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF09 ,  2F065FF42 ,  2F065FF61 ,  2F065GG06 ,  2F065GG13 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065QQ28 ,  4E068CA17 ,  4E068CA18 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CD08 ,  4E068CD15
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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