特許
J-GLOBAL ID:200903007531802721

有機物の除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 米澤 明 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-207918
公開番号(公開出願番号):特開平5-047730
出願日: 1991年08月20日
公開日(公表日): 1993年02月26日
要約:
【要約】【目的】 オゾンによるウエハなどの有機物を除去する速度を高める。【構成】 有機物を除去する基板を液中に浸漬、あるいは表面を水で被覆した状態でオゾン含有気体を供給するとともに、紫外線を照射することによりヒドロキシルラジカルの生成を高めて有機物の酸化分解速度を高める。
請求項(抜粋):
有機物をオゾンを利用して有機物を除去する方法において、水の存在下においてオゾン含有気体へ紫外線の照射をおこない、ヒドロキシルラジカルが生成した水によって酸化分解することを特徴とする有機物の除去方法。

前のページに戻る