特許

J-GLOBAL ID：200903007533592457

レチクル、それを用いた露光装置及び露光方法

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-104438
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299228
出願日： 2001年04月03日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】 基板にガラスを用いても静電チャックを行い得るレチクル及びそれを用いた露光装置を提供する。【解決手段】 本発明に係るレチクルは、EUV露光装置に用いるレチクル2であって、低膨張ガラス基板20と、このガラス基板20の上面に形成された、EUV光を反射するための多層膜MLと、この多層膜上に形成された、露光パタンを有する吸収層ALと、低膨張ガラス基板の下面に形成された導電性の膜CLと、を具備するものである。

請求項（抜粋）：

EUV露光装置に用いるレチクルであって、ガラス基板と、このガラス基板の上面に形成された、EUV光を反射するための多層膜と、この多層膜上に形成された、露光パタンを有するパタニング層と、ガラス基板の下面に形成された導電性の膜と、を具備することを特徴とするレチクル。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 503

FI (4件)：

G03F 1/14 G ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (13件)：

2H095BA10 ,  2H095BC16 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  2H097AA02 ,  2H097AB09 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097JA02 ,  5F046AA25 ,  5F046CC09 ,  5F046GA12 ,  5F046GD10