特許

J-GLOBAL ID：200903007533916228

光硬化造形法における積層平板造形法

発明者： 斉藤 直一郎 ,  早野 誠治 ,  魏 杰
出願人/特許権者： シーメット株式会社
代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-348759
公開番号（公開出願番号）：特開平5-154924
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 反りを生じずに、設計に忠実な形状の積層平板を造形することのできる光硬化造形法における積層平板造形法を提供する。【構成】 光硬化造形法で積層平板を造形する際に、離隔的に照射することによって未硬化部分を残した層2を形成する工程と、その上部層の硬化の際に前記未硬化部分6を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺しつつ積層された平板を形成する。

請求項（抜粋）：

光硬化造形法で積層平板を造形する際に、離隔的に照射することによって、未硬化部分を残した層を形成する工程と、その上部層の硬化の際に、前記未硬化部分を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺しつつ積層された平板を形成することを特徴とする光硬化造形法における積層平板造形法。

IPC (4件)：

B29C 67/00 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24 ,  B29L 7:00