特許

J-GLOBAL ID：200903007597531192

回折格子作製方法

発明者： 廣江 昭彦 ,  前田 英男
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-258503
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113905
出願日： 1993年10月15日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】格子深さの精度を容易且つ確実に管理できる回折格子作製方法を実現する。【構成】基板1上にエッチング耐性を有する保護膜2を形成する保護膜形成工程と、保護膜2に所望の周期パターンを形成するパターン形成工程と、周期パターンをマスクとして基板1のエッチングを行うエッチング工程とを、少なくとも有する回折格子作成方法において、基板1として、エッチング速度が互いに異なる2以上の層1A,1Bを有し、これらの層のエッチング速度が、保護膜2に近い層ほど大きくなっているものを用いる。

請求項（抜粋）：

基板上にエッチング耐性を有する保護膜を形成する保護膜形成工程と、上記保護膜に所望の周期パターンを形成するパターン形成工程と、上記周期パターンをマスクとして上記基板のエッチングを行うエッチング工程とを、少なくとも有する回折格子作製方法において、基板として、エッチング速度が互いに異なる2以上の層を有し、これらの層のエッチング速度が、上記保護膜に近い層ほど大きくなっているものを用いることを特徴とする回折格子作製方法。