特許
J-GLOBAL ID：200903007600319850
薄膜製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052326
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255853
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 フィルム状の基板の上に真空を利用して薄膜を連続的に形成する製造装置において、真空排気に関連した作業の効率を改善し、小型で簡素な構造を持つ薄膜製造装置を提供する。【構成】 ドラム5を取り囲むように処理室10とその前後に複数個の小真空室からなる作動排気室7,14を設け、ドラム5と差動排気室7,14、処理室10の間に真空用シール材9を、差動排気室7,14の前後に真空シール用ローラー6,15を設け、かつあらかじめガイドフィルムを通しておくことにより、いつでも処理が可能となり排気時間が省略できる。
請求項（抜粋）：
フィルム状の基板の上に真空を利用して薄膜を連続的に形成する薄膜製造装置であって、前記基板を案内するドラムを設け、前記ドラムの周囲に処理室とその前後に複数個の小真空室からなる差動排気室を設けたことを特徴とする薄膜製造装置。
IPC (4件)：
C23C 14/56
, C23C 16/54
, G11B 5/84
, G11B 5/85
