特許
J-GLOBAL ID：200903007611084820
基板保持具、基板の処理槽、及び基板の洗浄・乾燥方法及び同装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-203682
公開番号（公開出願番号）：特開平8-070031
出願日： 1994年08月29日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】【目的】 基板を保持するとともに、基板を保持した状態で該基板に対して処理を行う場合に用いる基板保持具について、ミゾの液溜り等の基板保持に伴って生じる不都合を解消した基板保持具、基板の処理槽、及び基板の洗浄・乾燥方法及び同装置を提供する。【構成】 ?@基板1を保持するとともに、基板1を保持した状態で該基板に対して処理を行う場合に用いる基板保持具2であって、基板1をその面に沿う方向で上下方向にスライド自在に支持するとともに、該基板と点接触し、かつ該基板1を上下動させる支持部分3を設ける。?A処理槽には基板と点接触する接触部分を設け、基板保持具に保持された基板の下部に該接触部分を当接させつつ基板保持具を処理槽内下方に入れることにより、基板をその面に沿う方向で基板保持具に相対的に上下方向にスライドさせる。
請求項（抜粋）：
基板を保持するとともに、基板を保持した状態で該基板に対して処理を行う場合に用いる基板保持具であって、基板をその面に沿う方向で上下方向にスライド自在に支持するとともに、該基板と点接触し、かつ該基板を上下動させる支持部分を設けたことを特徴とする基板保持具。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/304 351
