特許

J-GLOBAL ID：200903007613674225

広帯域コレステリック偏光子を製造する方法及び装置

発明者： ブロアー ディルク ヤン ,  ファン ハーレン ヨハネス アルベルタス マサイアス マリア
出願人/特許権者： フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 沢田 雅男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-510532
公開番号（公開出願番号）：特表平11-514757
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】本発明は、良好に規定された帯域及びエッジ位置を有する広帯域コレステリック偏光子を製造する方法及び装置に関する。この目的のため、液晶コレステリック規則性層が、照射に曝されることによりポリマー化される異なる反応性を持つ反応規則性モノマー及び反応性ネマトゲニックモノマーとを有する。本発明は、帯域の所望の照射の強度が実質的に係数10以上で上昇されることを特徴とする。この結果、偏光帯の帯域及びエッジ位置が上述のように固定される。モノクロセンサは、偏光体の所望のエッジ位置の波長に対応するセンサにより、エッジ位置が使用する波長に到ったか否か来ていすrことに使用できる。広帯域コレステリック偏光子は、表示装置において非常に有利に使用可能な様に良好に規定された帯域及びエッジ位置を有する。

請求項（抜粋）：

液晶コレステリック規則性層が、照射線に曝されることによりポリマー化される異なる反応性の反応性キラルモノマと反応性ネマトゲニックモノマとを有する広帯域コレステリック偏光子を製造する方法において、 前記照射線の強度は、帯域が所望のエッジ部分に到った場合に実質的に上昇することを特徴とする広帯域コレステリック偏光子を製造する方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 505

FI (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/13 505