特許
J-GLOBAL ID：200903007616223208
マイクロメカニカル装置の表面処理方法及び得られる装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-054259
公開番号（公開出願番号）：特開平7-013007
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1995年01月17日
要約：
【要約】【目的】 マイクロメカニカル装置の表面の摩耗を防ぎかつ接触部品間の吸引力を限定する単分子層薄膜を表面に形成して低リセット電圧を可能とする。【構成】 2つの部品間のファンデルワールス力をこれらの表面にパッシベーション単分子層を生成することによって限定することがきる。そのために、変形可能ミラー装置のようなマイクロメカニカル電子装置を、例えば、チップ上に準備し(22)、パッシベートされる表面をブラズマでクリーニング及び/又はアンダカットした(23)後、その表面をプラズマでアクチベートし(26)、このチップを原料物資と共にコンテナに収容した集合をオーブンに入れて加熱し(28)、その表面を原料物質の蒸気に露出させ(30)、その表面に上記単分子層を蒸着し、かつ過剰原料物質を排気する(32)。
請求項（抜粋）：
マイクロメカニカル装置上に低表面エネルギー摩耗抵抗薄膜を生成する方法であって、(a)上記装置をクリーニングする工程と、(b)上記クリーニングされた装置の表面をアクチベートする工程と、(c)上記アクチベートされた表面を加熱する工程と、(d)蒸気を発生するために原料物質を加熱する工程と、(e)上記表面上にパッシベーション層を蒸着するために上記原料物質の蒸気に上記アクチベートされた表面を露出する工程と、(f)過剰原料物質から上記装置を分離する工程と、を含む方法。
IPC (5件)：
G02B 5/08
, C23C 14/02
, C23C 14/24
, G02B 7/198
, C23F 4/00
