ガス供給装置及びコネクタ構造体

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-364939
公開番号（公開出願番号）：特開2000-188259
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】均一な成膜が可能なガス供給装置を得るとともに、定期的なメンテナンスや洗浄処理が簡単なコネクタ構造体を得ることを課題とする。【解決手段】真空中でプラズマ処理を行う装置のプラズマ室内でプラズマ電極に対してガスを供給するガス供給装置において、ガス供給管15と、このガス供給管15に接続した上部ガスヘッダー16と、前記ガス供給管15に接続した下部ガスヘッダー17と、前記上部ガスヘッダー16,下部ガスヘッダー17内に夫々前記ガス供給管15と接続して配置され、Φ0.3〜0.5mmの小孔を設けたガス注入管18,19と、前記上部ガスヘッダー16と下部ガスヘッダー17間に上部,下部ガスヘッダー16,17に夫々接続して並列に配置され、前記プラズマ電極側にφ0.3〜0.5mmの複数のガス吹出孔25を設けた複数のガス管20とを具備することを特徴とするガス供給装置。

請求項（抜粋）：

真空中でプラズマ処理を行う装置のプラズマ室内でプラズマ電極に対してガスを供給するガス供給装置において、ガス供給管と、このガス供給管に接続した上部ガスヘッダーと、前記ガス供給管に接続した下部ガスヘッダーと、前記上部ガスヘッダー,下部ガスヘッダー内に夫々前記ガス供給管と接続して配置され、Φ0.3〜0.5mmの小孔を設けたガス注入管と、前記上部ガスヘッダーと下部ガスヘッダー間に上部,下部ガスヘッダーに夫々接続して並列に配置され、前記プラズマ電極側にφ0.3〜0.5mmの複数のガス吹出孔を設けた複数のガス管とを具備することを特徴とするガス供給装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , C23C 16/455 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 D , H01L 21/302 B

Fターム (19件)：

4K030EA01 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030FA01 , 4K030KA15 , 4K030KA17 , 4K030KA23 , 4K030KA30 , 5F004AA01 , 5F004BB28 , 5F004BB32 , 5F004BC03 , 5F045AA08 , 5F045AA19 , 5F045BB02 , 5F045EC07 , 5F045EF03 , 5F045EF13 , 5F045EF14

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