粒子の高精度測定システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：五十嵐孝雄 , 下出隆史 , 市川浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-286161
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099028
出願日： 2004年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】生産環境において迅速且つ高度な実践方法で達成され得る確かで評判の良い、0.1ミクロン以下の欠陥及び他の特徴の計測を提供し得る写真マスク検査ツールと共に用いるための客観的特徴計測ツールを提供すること。【解決手段】オペレータは特徴71の周りに大まかなユーザ関心領域72を描き、計測ツールは自動的に特徴71を識別すると共にその寸法を計算する。1ミクロン未満の寸法の特徴71は、光子の寸法によりその計測が阻害されるので各装置について非線形多項式較正曲線が展開される。欠陥又は線の各類型について較正曲線を生成するために製造装置上で既知の寸法の特徴が計測される。寸法不知の特徴は同一装置上で計測され、ミクロン単位のより正確な読み取り値を実現するために較正曲線を使用してピクセル単位の計測寸法が較正される。寸法を決定するために、境界ボックス及び特徴の強度プロファイルの光移行を用いて特徴の類型が決定される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

媒体上に実際に存在する微細な特徴の寸法を光計測する際の較正用の多項式較正曲線をコンピュータにより生成する方法であって、微細な試験特徴の寸法を光計測により測定するために既知の寸法を有する微細な試験特徴の寸法を光計測により測定する光計測実行ステップであり、ここで前記光計測寸法及び前記微細な試験特徴の既知寸法は、前記光計測寸法及び前記既知寸法間の関係を示すデータ点の表示に好適であるものとされているステップと、前記微細な試験特徴の寸法を光計測により複数回測定するために、それぞれが異なる既知の寸法を有する複数の微細な試験特徴について前記光計測実行ステップを繰り返すステップであり、前記寸法の光計測寸法及び既知の寸法は前記光計測寸法及び前記既知寸法間の非線形関係を示す複数のデータ点の表示に好適であるものとされているステップと、前記光計測寸法及び前記既知寸法間の非線形関係を示すために前記複数のデータ点に基づく非線形多項式較正曲線を展開するステップとを備え、これにより、前記寸法を正確に較正するための較正曲線であって、寸法不知の実際の微細特徴の光計測値を較正するために参照し得る較正曲線を生成する多項式較正曲線生成方法。

IPC (3件)：

G01B11/02 , G01N21/956 , G03F1/08

FI (3件)：

G01B11/02 H , G01N21/956 A , G03F1/08 S

Fターム (42件)：

2F065AA22 , 2F065AA24 , 2F065AA26 , 2F065AA46 , 2F065AA49 , 2F065AA58 , 2F065BB02 , 2F065BB23 , 2F065CC18 , 2F065DD03 , 2F065DD06 , 2F065EE11 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065FF46 , 2F065HH15 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065QQ13 , 2F065QQ18 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ42 , 2F065QQ43 , 2F065RR05 , 2F065SS02 , 2F065SS03 , 2F065SS06 , 2F065SS13 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051EC01 , 2G051EC02 , 2H095BD04 , 2H095BD05 , 2H095BD16 , 2H095BD18 , 2H095BD25 , 2H095BD26 , 2H095BD28

引用特許：

審査官引用 (1件)

画像処理装置における撮像装置選定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-174691 出願人：積水化学工業株式会社, 株式会社高岳製作所

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