特許

J-GLOBAL ID：200903007626714463

位相シフトマスク

発明者： 橋本 耕治 ,  伊藤 信一 ,  奥村 勝弥
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-162920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-072611
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】 基板開口部を透過した光強度と位相シフタを透過した光強度を等しくすることができ、位相シフタ部と透明基板の開口部で形成される解像パターンの均一性向上をはかり得る位相シフトマスクを提供すること。【構成】 透光性基板50上に所望の開口パターンを有する遮光膜51を形成すると共に、開口パターンの一部に透過光に対して位相をシフトする位相シフト材料52を形成した位相シフトマスクにおいて、透過部501とシフタ部502の双方に位相シフト材料52と同じ材料からなるバッファ膜53を形成し、このバッファ膜53の膜厚をh=(λ/4ns )・{m-ns /(ns -1)}とし(但し、ns :シフタ屈折率,λ:露光波長,m:整数)、透過部501及びシフタ部502を通過する光の透過率が等しくなるようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透光性基板上に所望の開口部パターンを有する遮光膜を形成すると共に、開口部の一部に位相シフタを配置した位相シフトマスクにおいて、隣接する開口部を透過した光の相対位相差が略180°となるように位相シフタを配置した任意の2本の平行な開口部で囲まれた領域に形成された開口部の全て若しくは一部が前記2本の平行な開口部に平行であり、かつ前記2本の平行な開口部に垂直な任意の断面における前記囲まれた開口部の本数が偶数の部分では、前記囲まれた開口部内で隣接するものの相対位相を180°、前記囲まれた開口部と2本の平行な開口部間で隣接するものの相対位相を180°とし、奇数の部分では、前記囲まれた開口部内で隣接するものの相対位相を180°、前記囲まれた開口部と2本の平行な開口部間で隣接するものの相対位相を180°若しくは90°となるように設定してなることを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528