特許
J-GLOBAL ID:200903007631184812

液晶素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 近島 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-129003
公開番号(公開出願番号):特開平10-319365
出願日: 1997年05月19日
公開日(公表日): 1998年12月04日
要約:
【要約】【課題】表示欠陥の無い液晶素子を歩留り良く製造する。【解決手段】図1に示す液晶素子1を製造するに当たり、ガラス基板2の表面に透明電極6を形成し、この透明電極6を覆うようにパッシベーション膜7を形成する。その後、このパッシベーション膜7の表面を、表面粗さ100Å以下のプレス部材を40kg/cm2 の押圧力にて押圧し、平坦化を行う。これにより、パッシベーション膜7の表面にゴミの付着等に伴う突起が形成されてしまった場合でも、該突起をプレス部材によって押し潰すことができる。このため、液晶素子1を図1のように組み立てて電極6,9間に電圧を印加した場合でも、ショートの発生を防止でき、表示欠陥の発生を防止できる。
請求項(抜粋):
一の基板に電極を形成する工程と、該一の基板に前記電極を覆うように第1の層を形成する工程と、他の基板に電極を形成する工程と、該他の基板に前記電極を覆うように第2の層を形成する工程と、これら第1の層及び第2の層が微小距離離間した状態で相対向するように前記2枚の基板を貼り合わせる工程と、これら2枚の基板の間に液晶を注入する工程と、からなる液晶素子の製造方法において、前記一の基板に前記第1の層を形成した後に、表面が平滑なプレス部材によって前記第1の層の表面を押圧するプレス工程を実施し、該第1の層の表面を平坦にする、ことを特徴とする液晶素子の製造方法。
IPC (4件):
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304
FI (4件):
G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 M

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