特許
J-GLOBAL ID：200903007660821910
半導体基板洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253869
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084874
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板表面に電気的に結合したパーティクルを除去する。【構成】 洗浄液5を満たした洗浄槽1内に台座3に装着した半導体基板4を配置し、配管6、循環ポンプ7、フィルタ8からなる循環系により洗浄液5を循環させる。超音波発振器9を発振させてパーティクルを基板から物理的に離脱させるとともに、直流対向電極10により直流電界を発生させて、半導体基板と電気的に結合しているパーティクルを離脱させる。
請求項（抜粋）：
半導体基板が配置される空間内に電界を発生させるための電極が、洗浄槽内に1乃至複数対設けられている半導体基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
