特許

J-GLOBAL ID：200903007677177438

シリコン膜形成用組成物およびシリコン膜の形成方法

発明者： 岩沢 晴生 ,  加藤 仁史
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-376019
公開番号（公開出願番号）：特開2004-204094
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】所望の膜厚を有する多結晶シリコン膜を効率的、かつ簡便に形成するための組成物および方法を提供すること。【解決手段】熱プラズマ法によって得られたシリコン粒子および分散媒を含有するシリコン膜形成用組成物、基体上に上記シリコン膜形成用組成物の塗膜を形成し、次いで瞬間溶融、熱処理あるいは光処理し、シリコン膜を形成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

熱プラズマ法によって得られたシリコン粒子および分散媒を含有するシリコン膜形成用組成物。

IPC (5件)：

C09D1/00 ,  C01B33/02 ,  C09D201/00 ,  H01L21/208 ,  H01L31/04

FI (5件)：

C09D1/00 ,  C01B33/02 D ,  C09D201/00 ,  H01L21/208 Z ,  H01L31/04 X

Fターム (29件)：

4G072AA01 ,  4G072BB09 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH03 ,  4G072KK17 ,  4G072NN21 ,  4J038AA011 ,  4J038HA431 ,  4J038PA01 ,  4J038PB09 ,  5F051AA03 ,  5F051BA14 ,  5F051CB13 ,  5F051CB24 ,  5F051GA02 ,  5F051GA03 ,  5F051GA05 ,  5F053AA50 ,  5F053BB09 ,  5F053DD01 ,  5F053FF01 ,  5F053GG02 ,  5F053HH10 ,  5F053LL05 ,  5F053PP03 ,  5F053RR05 ,  5F053RR13