特許
J-GLOBAL ID：200903007679902857
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247463
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078751
出願日： 1993年09月07日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 基板処理工程全体のタクトが変化しても、基板にダメージを与えることなく、しかも基板処理工程全体のタクトを長くすることなく、適量の紫外線エネルギーを基板に与えることができる基板処理装置を提供する。【構成】 基板1を支持するチャック2の上方位置に紫外線照射ユニット3が配設される。この紫外線照射ユニット3の紫外線ランプ4は、紫外線ランプ出力制御回路6と接続され、さらに、紫外線ランプ出力制御回路6には紫外線ランプ出力設定装置7からの出力設定信号が与えられるようになっている。紫外線ランプ出力設定装置7では、タクトタイムに応じて出力設定信号を発生させ、紫外線ランプ出力制御回路6に与えることにより、紫外線ランプ4の出力を調整しながら、処理時間(タクトタイム)の間、連続的に基板1に紫外線を照射することにより、基板1に適量の紫外線エネルギーを照射する。
請求項（抜粋）：
基板を支持する支持手段と、前記支持手段に支持された基板に紫外線を照射する紫外線照射手段と、前記紫外線照射手段の出力を制御する出力制御手段とを備え、所定時間の間、前記支持手段で前記基板を支持するとともに、前記所定時間に応じて前記紫外線照射手段の出力を制御しながら、連続的に前記基板に紫外線を照射して、前記基板に一定の紫外線エネルギーを与えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/42
, H01L 21/304 341
