特許
J-GLOBAL ID：200903007684973819
タンタルおよびニオブの分離精製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-392595
公開番号（公開出願番号）：特開2002-193622
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：
【要約】【課題】 操業コストおよび排水処理コストを低減しつつ、比較的簡便な工程で安定的に、タンタルおよびニオブを高い純度で分離精製することを課題とする。【解決手段】 (a)タンタル/ニオブ含有原料水溶液に、ホスホリル系抽出剤を含有する有機溶媒を接触させて、タンタルを有機溶媒に優先的に抽出する第一工程と、抽出後の有機溶媒を0.1〜4mol/Lの硫酸で洗浄する第二工程と、得られた有機溶媒中に含まれるタンタルを水系溶媒により逆抽出する第三工程とを有するタンタル精製工程、および(b)第一工程におけるタンタル抽出後の原料水溶液に(a)工程とは別個独立に添加されるホスホリル系有機溶媒を接触させて、ニオブを有機溶媒に抽出する第四工程と、抽出後の有機溶媒を2.5〜10mol/Lの硫酸で洗浄して第五工程と、得られた有機溶媒中に含まれるニオブを水系溶媒により逆抽出する第六工程とを有するニオブ精製工程、を含んでなることにより、上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
(a)タンタルおよびニオブを含有する原料水溶液に、下記一般式を有するホスホリル系抽出剤;(ただし、Rは、水素であるか、または炭素数1〜20のアルキル基もしくはアリール基である。)を石油系炭化水素希釈剤を用いて希釈した有機溶媒を接触させて、タンタルを該有機溶媒に優先的に抽出し、かつニオブを原料水溶液に残存させる第一工程と、該抽出後の有機溶媒を0.1〜4mol/Lの硫酸で洗浄して該有機溶媒中に残存する不純物をさらに低減する第二工程と、該不純物が低減された有機溶媒中に含まれるタンタルを水系溶媒により逆抽出する第三工程とを有するタンタル精製工程、および、(b)前記第一工程において得られたタンタル抽出後の原料水溶液に、上記一般式を有するが(a)工程とは別個独立に添加されるホスホリル系有機溶媒を接触させて、ニオブを該有機溶媒に抽出する第四工程と、該抽出後の有機溶媒を2.5〜10mol/Lの硫酸で洗浄して該有機溶媒中に残存する不純物をさらに低減する第五工程と、該不純物が低減された有機溶媒中に含まれるニオブを水系溶媒により逆抽出する第六工程とを有するニオブ精製工程、を含んでなる、タンタルおよびニオブの分離精製方法。
IPC (3件)：
C01G 35/00
, B01D 11/04
, C01G 33/00
C01G 35/00 E
, B01D 11/04 B
, C01G 33/00 C
4D056AB08
, 4D056AC15
, 4D056CA13
, 4D056CA17
, 4D056CA18
, 4G048AA02
, 4G048AB05
, 4G048AB08
, 4G048AD03
, 4G048AE03
