特許
J-GLOBAL ID：200903007685838087

蒸着方法

発明者：
西川 龍司

西川 龍司 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 須藤 克彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-095992
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297562
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：
【要約】【課題】蒸着マスク、加工精度の悪化、熱膨張による寸法の狂いを抑制する。【解決手段】シャドウマスク200のサイズをガラス基板201に比して小さく加工成形する。また、シャドウマスク200及び対向配置された蒸着源202は不図示の真空チャンバーに対して固定されており、ガラス基板201を移動機構によりシャドウマスク200に沿って移動させる。蒸着源202から蒸発された有機EL蒸着材料は、シャドウマスク200の開口部203を通して、ガラス基板201上に蒸着され、ガラス基板201の全面に所望の蒸着パターンが形成される。
請求項（抜粋）：
基板と蒸着マスクとを対向させ、蒸着源から、前記蒸着マスクに設けられた開口部を通して前記基板の表面に蒸着材料を蒸着してパターン形成を行う蒸着方法において、前記蒸着マスクの面積が前記基板の面積より小さく、前記基板を前記蒸着マスクに対して一方向に相対的に移動させながら蒸着を行うことを特徴とする蒸着方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  H05B 33/14
FI (3件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  H05B 33/14 A
Fターム (10件)：
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029HA03
引用特許：
審査官引用 (2件)

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