特許
J-GLOBAL ID:200903007697761616
熱処理装置及び熱処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-130353
公開番号(公開出願番号):特開2000-318054
出願日: 1999年05月11日
公開日(公表日): 2000年11月21日
要約:
【要約】【課題】 プラスチック材料を用いて作製された円盤状記録媒体となる基板に対して熱処理を施す際、塵埃等が付着してしまうのを防止する。【解決手段】 プラスチック材料を用いて作製された円盤状記録媒体となる基板に対して熱処理を施す熱処理装置において、加熱した気体を吹き出す送風手段と、イオン化した気体を吹き出す除電手段とを備え、基板には、送風手段により加熱された気体が吹き付けられるとともに、除電手段によりイオン化された気体が吹き付けられる。
請求項(抜粋):
プラスチック材料を用いて作製された円盤状記録媒体となる基板に対して熱処理を施す熱処理装置において、加熱した気体を吹き出す送風手段と、イオン化した気体を吹き出す除電手段とを備え、上記基板には、上記送風手段により加熱された気体が吹き付けられるとともに、上記除電手段によりイオン化された気体が吹き付けられることを特徴とする熱処理装置。
IPC (8件):
B29C 71/02
, F27D 7/02
, F27D 7/04
, F27D 7/06
, G11B 5/84
, G11B 7/26
, G11B 11/10 541
, B29L 17:00
FI (7件):
B29C 71/02
, F27D 7/02 Z
, F27D 7/04
, F27D 7/06 C
, G11B 5/84 Z
, G11B 7/26
, G11B 11/10 541 E
Fターム (30件):
4F201AG01
, 4F201AH38
, 4F201AH79
, 4F201BA07
, 4F201BC01
, 4F201BC02
, 4F201BC12
, 4F201BC15
, 4F201BR02
, 4F201BR05
, 4F201BR06
, 4K063AA05
, 4K063AA15
, 4K063BA12
, 4K063CA03
, 4K063DA01
, 4K063DA26
, 5D075EE03
, 5D075FG15
, 5D075GG20
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA01
, 5D112GA17
, 5D112GA23
, 5D112GA25
, 5D112GB02
, 5D121AA02
, 5D121GG05
, 5D121GG08
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