プラズマ処理装置

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027626
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284333
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】プラズマ生成部を取り囲む非導電性材料でできた真空容器壁がプラズマによって削られる量を制御し、且つプラズマ着火性を向上させる。【解決手段】高周波電源10が発生した高周波電力をアンテナ1に供給することによりプラズマを生成するが、アンテナのもう一端を電気容量が可変のコンデンサー9を挟んでアースに接地される。ファラデーシールド8はアースから電気的に離し、可変コンデンサー9の電気容量はプラズマ着火後には、壁の削れ量が小さくなるようにアンテナの両端の電圧の絶対値が等しく正負が逆になるような値に設定する。プラズマ6を着火するときにはコンデンサー9の電気容量を壁の削れ量が最小となる値よりも大きな値もしくは小さな値となるようにする。

請求項（抜粋）：

プラズマ生成部に電界を発生するアンテナと、該アンテナに高周波電力を供給する高周波電源と、真空雰囲気を形成するためにプラズマ生成部を取り囲む真空容器と、該真空容器の周りに設けられたファラデーシールドと、該真空容器内にガスを供給するガス供給装置と、被処理物を置くための試料台と、該試料台に高周波電界を印加するための高周波電源を備え、該アンテナが発生する電界により電子を加速して該ガスを衝突電離することによりプラズマを発生させ該被処理物を処理するプラズマ処理装置において、該アンテナのアース部に負荷を設け、プラズマ着火時には着火が向上するように該アンテナの平均的な電位を大きくなるようにし、プラズマ生成後は該真空容器の壁の削り量が小さくなるようにアンテナの平均的な電位をアースの電位に近くなるように該負荷を調整したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (7件)：

B01J 19/08 H , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H05H 1/46 L , H05H 1/46 R , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-325791 出願人：株式会社日立製作所

前のページに戻る