特許
J-GLOBAL ID：200903007706558098
基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004930
公開番号（公開出願番号）：特開2000-262989
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：
【要約】【課題】 少量の洗浄液を極めて効率よく使用し、高清浄な洗浄を可能として、基板洗浄効果を格段に向上させる。【解決手段】 線状ノズル112は、設置されたウェハ104の裏面に位置するように固定されている。他方、線状ノズル113は、ウェハ104の略中心部位から外周方向にわたって可動とされており、使用しないときにはウェハ104の外周方向に位置しており、洗浄時には線状ノズル112と上方から見て重なる部位まで回動する。
請求項（抜粋）：
所定部位に設置された基板に洗浄液を供給することにより、前記基板を洗浄する基板洗浄装置であって、前記基板の表面及び裏面に同時に前記洗浄液を吐出する一対の洗浄液噴射手段を備えており、一方の洗浄液噴射手段は、前記洗浄液を介して前記基板に高周波又は超音波を印加する機能を有するとともに、他方の洗浄液噴射手段は、設置された前記基板の略中心部位から外周方向にわたって可動とされており、洗浄時には、双方の前記洗浄液噴射手段からの前記洗浄液の前記基板上における吐出領域が上方から見て重なるように稼働することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 3/02
, B08B 3/12
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
B08B 3/02 B
, B08B 3/12 C
, H01L 21/304 643 D
, H01L 21/304 643 A
