特許
J-GLOBAL ID:200903007710694753

プラズマ処理方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-515182
公開番号(公開出願番号):特表平10-503554
出願日: 1996年10月10日
公開日(公表日): 1998年03月31日
要約:
【要約】ワークピース(26)を加熱するためのプラズマ加熱装置(20)はワークピース(26)を収容するのに充分な広さの容器(22)と、約0.01ミリトル乃至約100ミリトルの減少した容器(22)内のガス圧力のソースとを備えている。プラズマ加熱装置(20)はさらに包囲プラズマを生成するプラズマソース(40)を具備する。任意選択的にワークピース(26)電圧がワークピース(26)と容器(22)の壁(22)の間に供給され、反応性ガス源(34)が容器(22)にガスを充填するために設けられ、放射ヒータ(25)がワークピース(26)を部分的に加熱するために設けられてもよい。動作においてプラズマソース(40)はワークピース(26)を囲んで加熱するプラズマを生成する。プラズマおよびワークピース(26)の加熱は、制御可能な均一または不均一な熱処理および、またはワークピース(26)の表面処理のために調整される。装置(20)は真空中において、またはワークピース(26)の表面を化学的に変化させるために容器(22)内に導入される窒素、炭素または硼素のガス源のような反応性ガス中でワークピース(26)を熱処理するために使用されることができる。
請求項(抜粋):
ワークピースを収容するのに充分な広さで容器壁を有する容器と、 約0.01ミリトル乃至約100ミリトルの減少したガス圧力を容器内に生成する手段と、 ワークピース以外の電子放射装置を具備し、容器壁を陽極とする包囲プラズマを生成するプラズマソースとを具備しているワークピースを加熱するためのプラズマ加熱装置。
IPC (3件):
C23C 8/36 ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/46
FI (3件):
C23C 8/36 ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/46 A

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