特許

J-GLOBAL ID：200903007717596978

光ディスクの製造方法

発明者： 中野 淳 ,  姉崎 芳和
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-341938
公開番号（公開出願番号）：特開平5-159394
出願日： 1991年11月30日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【構成】 記録部上に紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、ディスクを回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成する。【効果】 平坦部が広い紫外線硬化樹脂層が形成でき、光磁気ディスクとして摺接記録方式を採用した場合にもユーザエリアを広く採ることが可能な光ディスクが製造できる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び/又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 11/10 ,  G11B 7/26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-149953
  
• 特開平2-015441
  
• 特開平1-286146
  
• 特開平4-310647