特許
J-GLOBAL ID:200903007718484944
消毒廃ガス処理方法及びその処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
上野 登 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-338637
公開番号(公開出願番号):特開2000-157839
出願日: 1998年11月30日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】 医療器具等の消毒処理廃ガスを容易かつ確実に、しかも低廉なコストで分解・無害化する方法及び装置を提供すること。【解決手段】 消毒処理室12で医療器具をホルムアルデヒドあるいはグルタルアルデヒド等の消毒剤により消毒した後に発生するホルムアルデヒドガスやグルタルアルデヒドガス等を分解処理室14で光触媒型フィルタ20に通し、その光触媒型フィルタ20に担持されるアナターゼ型酸化チタン粒子により二酸化炭素(CO2)と水(H2O)とに分解し無害化して排気処理する。アナターゼ型酸化チタン粒子にAg触媒などが担持されておれば、そのガス中に含まれる細菌類の滅菌処理も行われる。
請求項(抜粋):
被消毒処理物の消毒処理に用いられた消毒剤から発生する消毒廃ガスを、フィルタ基材に酸化チタン粒子が分散担持される光触媒型フィルタに通し、消毒廃ガスを分解無害化するようにしたことを特徴とする消毒廃ガス処理方法。
IPC (7件):
B01D 53/86
, B01J 21/06
, B01J 23/50
, B01J 23/72
, B01J 29/06
, B01J 29/068
, B01J 35/02 ZAB
FI (8件):
B01D 53/36 J
, B01J 21/06 A
, B01J 23/50 A
, B01J 23/72 A
, B01J 29/06 A
, B01J 29/068 A
, B01J 35/02 ZAB J
, B01D 53/36 H
Fターム (47件):
4D048AA19
, 4D048AA22
, 4D048AB03
, 4D048BA05X
, 4D048BA07X
, 4D048BA11Y
, 4D048BA34X
, 4D048BA35X
, 4D048BA41X
, 4D048BB07
, 4D048BB09
, 4D048CA07
, 4D048CC26
, 4D048CC27
, 4D048DA01
, 4D048DA02
, 4D048DA05
, 4D048DA08
, 4D048EA01
, 4D048EA04
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA07A
, 4G069BA08A
, 4G069BA08B
, 4G069BA22B
, 4G069BA48A
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BC31A
, 4G069BC31B
, 4G069BC32A
, 4G069BC32B
, 4G069BE19B
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069DA05
, 4G069EA07
, 4G069EA11
, 4G069EB11
, 4G069EB18Y
, 4G069EC22X
, 4G069FA03
, 4G069FB23
, 4G069FB46
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