特許

J-GLOBAL ID：200903007726060738

高周波洗浄装置

発明者： 今井 正夫 ,  安達 甫 ,  原田 康之 ,  加藤 正行
出願人/特許権者： 高周波フィールド株式会社 ,  株式会社プレテック
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-299589
公開番号（公開出願番号）：特開2000-126700
出願日： 1998年10月21日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 従来の高周波洗浄装置に比べて洗浄領域の拡大と洗浄力の向上とを図ることが可能な高周波洗浄装置を提供するものである。【解決手段】 高周波振動ノズルと、この高周波振動ノズルの下方に配置されたマイクロ波導波管と、前記高周波振動ノズルから高周波音波に乗って噴射された洗浄液流が流通される前記導波管に設けられたマイクロ波透過性材料からなる筒体と、前記筒体の上部開口部に取付けられたメッシュ状マイクロ波シールド部材とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

高周波振動ノズルと、前記高周波振動ノズルから高周波音波に乗って噴射された洗浄液流にマイクロ波を重畳させるためのマイクロ波発生手段とを具備したことを特徴とする高周波洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 3/02 ,  B05B 1/10 ,  B08B 3/12 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 643 ,  B05B 17/06

FI (6件)：

B08B 3/02 A ,  B05B 1/10 ,  B08B 3/12 Z ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 643 D ,  B05B 17/06

Fターム (22件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BC05 ,  3B201CB01 ,  4D074AA01 ,  4D074BB03 ,  4D074DD09 ,  4D074DD35 ,  4D074DD37 ,  4F033AA04 ,  4F033BA04 ,  4F033CA04 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033FA01 ,  4F033LA00