特許
J-GLOBAL ID：200903007767302770
微細パターンの印刷法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前島 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-261999
公開番号（公開出願番号）：特開平8-099476
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 凹版の凹部にインキを充填した後、インキを被印刷体に転移させてパターンを印刷する凹版印刷方法において、インキの離型性、パターンの再現性、および耐刷性を向上させて精度の高い印刷を実現する。【構成】 凹版印刷方法において、環状構造を有する非晶質フッ素化合物を使用して、凹版の少なくとも凹部の表面に離型性のフッ素樹脂層を形成する。
請求項（抜粋）：
印刷画線部となるパターン凹部を設けた凹版の少なくとも凹部の表面に、凹版と接着する離型性の樹脂層を形成し、その凹版にインキを充填し、被印刷体に直接あるいは中間介在物を介して転写する印刷方法において、前記離型性の樹脂層が環状構造を有する非晶質フッ素樹脂を含む組成物からなることを特徴とする微細パターンの印刷法。
IPC (3件)：
B41N 1/06
, B41M 1/10
, B41M 3/06
