特許

J-GLOBAL ID：200903007775449381

スパッタリングターゲットおよび透明導電膜とその製造方法

発明者： 光井 彰
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-240816
公開番号（公開出願番号）：特開平10-088332
出願日： 1996年09月11日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：

【要約】【課題】生産性に優れ、比較的高い10-1〜1010Ωcmの比抵抗が容易に得られる透明導電膜とその製造方法および該透明導電膜の製造のためのスパッタリングターゲットの提供。【解決手段】ZnOを主成分とし、GaとYとを含む透明導電膜とその製造方法および該透明導電膜の製造のためのスパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

ZnOを主成分とし、GaとYとを含むスパッタリングターゲット。