露光システム及び走査型露光装置並びにその露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282738
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114145
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】マスクを照明する照明条件の変更、及び、静止状態または走査状態での露光動作に関わらず精確な回路パターンの投影転写を可能とする露光システム及び走査型露光装置並びにその露光方法を提供する。【解決手段】ウエハW上へのレチクルRの回路パターンの転写露光に先立って、照明絞り68及びレチクルRの少なくとも一方が交換されたときには、静止状態での静止結像特性と走査状態での走査結像特性とを測定する。測定された両結像特性は、ハードディスク部87内に照明絞り68及びレチクルR毎に作成されたデータファイルに格納する。そして、前記測定された両結像特性に基づいて、結像特性制御部82を介して投影光学系PLの結像特性を調節し最適化する。次回以降の同一条件での露光時には、前記データファイル内に格納された両結像特性に基づいて、投影光学系PLの結像特性の調節を行う。

請求項（抜粋）：

マスク上の照明領域に対してそのマスクを走査するマスクステージと、前記マスク上のパターンの像を基板上に投影する投影光学系と、前記照明領域と前記投影光学系に関して共役な露光領域に対して前記基板を前記マスクの走査と同期して走査する基板ステージと、前記マスクを照明する照明条件を変更する照明条件変更手段とを有する露光システムにおいて、前記マスクステージと前記基板ステージとがともに静止した静止状態における前記投影光学系の静止結像特性を測定する第1結像特性測定手段と、前記マスクステージと前記基板ステージとが同期走査された走査状態における前記投影光学系の走査結像特性を測定する第2結像特性測定手段と、前記照明条件変更手段により前記照明条件が変更されたとき、前記第1結像特性測定手段を用いて前記静止結像特性を測定するとともに、前記第2結像特性測定手段を用いて前記走査結像特性を測定する測定制御手段と、を備えた露光システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

Fターム (23件)：

5F046BA05 , 5F046CB05 , 5F046CB12 , 5F046CB22 , 5F046CB23 , 5F046CB25 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046CC08 , 5F046CC09 , 5F046CC10 , 5F046CC16 , 5F046DA01 , 5F046DA13 , 5F046DA27 , 5F046DB01 , 5F046DB04 , 5F046DC01 , 5F046DC02 , 5F046DD04 , 5F046DD06

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