特許

J-GLOBAL ID：200903007793014031

気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法

発明者： 足立 美紀
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-009201
公開番号（公開出願番号）：特開平11-207603
出願日： 1998年01月21日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：

【要約】【課題】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面に平滑性のすぐれた研磨面を形成する。【解決手段】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、研磨液として、水溶液中に10〜1000nmの平均粒径を有する酸化チタン粉末が2〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜100cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、前記定盤および/または前記薄膜を相互平面移動させて研磨する。

請求項（抜粋）：

気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、研磨液として、水溶液中に10〜1000nmの平均粒径を有する酸化チタン粉末が2〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜100cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、前記定盤および/または前記薄膜を相互平面移動させることを特徴とする気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法。

IPC (5件)：

B24B 37/00 ,  B24B 1/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 622 ,  B24B 37/04

FI (5件)：

B24B 37/00 H ,  B24B 1/00 B ,  H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/04 A ,  H01L 21/30 531 M

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-157385   出願人：株式会社東芝
• 特開昭59-107847