特許

J-GLOBAL ID：200903007805746564

回転処理装置

発明者： 野田 勝浩
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-036220
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230176
出願日： 2000年02月15日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 処理液による回転軸劣化を抑制した回転処理装置を提供する。【解決手段】 上面に被処理体4を搭載して固定保持する回転テーブル5と、この回転テーブル5の下面に結合された回転軸3と、回転処理中に前記被処理体4周囲を囲むカップ2と、このカップ2内で前記回転軸3の周囲を覆う傘状の回転軸カバー9と、前記カップ2内の空気や液体を排出する排出部8とを備えた回転処理装置において、前記回転軸カバー9内部を前記カップ2内部に対し陽圧にするためのエア又は不活性ガスを導入する清浄ガス導入通路10を設けた。

請求項（抜粋）：

上面に被処理体を搭載して固定保持する回転テーブルと、この回転テーブルの下面に結合された回転軸と、回転処理中に前記被処理体周囲を囲むカップと、このカップ内で前記回転軸の周囲を覆う傘状の回転軸カバーと、前記カップ内の空気および液体を排出する排出部とを備えた回転処理装置において、前記回転軸カバー内部を前記カップ内部に対し正圧にするための清浄ガス導入通路を設けたことを特徴とする回転処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (18件)：

2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075AC95 ,  4D075BB56Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042CC03 ,  4F042CC07 ,  4F042DD38 ,  4F042EB24 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08