特許

J-GLOBAL ID：200903007811698695

感光剤及びそれを含有するポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 北折 智之 ,  梅田 真一 ,  小柳 敬夫 ,  福永 誠規 ,  長澤 孝太郎
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-080273
公開番号（公開出願番号）：特開平5-249665
出願日： 1992年03月03日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【構成】テトラフェノール類と1,2-ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとのエステル化反応により得られるエステル体とアルカリ可溶性樹脂とを含有するポジ型フォトレジスト組成物を溶媒に溶解し感光液とする。この感光液をシリコンウェハーの様な基板上に塗布し、次にベークし乾燥させた後、微細パターンの描かれているマスクを通して紫外線等の放射線を照射し、更にベークし次いでアルカリ水溶液で現像処理することによりレジストパターンを得る。【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、解像性が極めて高く、得られたレジストパターン形状も優れているため半導体集積回路の製造に極めて有用である。

請求項（抜粋）：

式(1)で表される化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホニルクロライドとを反応させて得られる感光物【化1】

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027