特許

J-GLOBAL ID：200903007821765544

オブジェクトにパターンを投射する計測方法およびその方法を用いたシステム

発明者： 品川 嘉久 ,  國井 利▲泰▼ ,  日置 尋久 ,  森本 潤子
出願人/特許権者： 株式会社モノリス
代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-269125
公開番号（公開出願番号）：特開平11-063929
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 パターン投射法でオブジェクトの三次元位置情報を取得する際、高速性や精度に改善の余地があった。【解決手段】 液晶パネル3を経た光は所望のパターンとなってオブジェクト10を照らす。ビデオカメラ21はオブジェクト10を撮影する。オブジェクト10には、パターンを構成する複数の線が投射されているため、対応同定部30においてカメラ映像のいずれの部分がパターンのいずれの線に対応するか判断する。対応がすべて把握できれば、位置情報計算部40でオブジェクト10の三次元座標を計算する。

請求項（抜粋）：

オブジェクトにパターンを投射する工程と、パターンの投射されたオブジェクトを撮影する工程と、撮影された映像内で、オブジェクトに投射されたパターンの各部の位置を同定する工程と、を含み、パターンの一部を順に取り除きながらそのパターンを投射していくことにより、取り除かれた部分の位置を手掛かりに前記各部の位置を同定していくことを特徴とする計測方法。

IPC (4件)：

G01B 11/00 ,  G01C 15/00 ,  G06T 7/00 ,  G06T 7/60

FI (4件)：

G01B 11/00 H ,  G01C 15/00 A ,  G06F 15/62 415 ,  G06F 15/70 350 B