特許
J-GLOBAL ID:200903007831419164

オプトエレクトロニクス半導体装置、分布型ブラッグ反射器、及び偏光分布型ブラッグ反射器の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-059646
公開番号(公開出願番号):特開平10-041590
出願日: 1997年03月13日
公開日(公表日): 1998年02月13日
要約:
【要約】【課題】 分布型ブラッグ反射器(DBR)の高い直列抵抗により起こる問題が排除或いは減少させられたDBRを提供する【解決手段】 レーザ或いは発光ダイオード装置が、p-i-n構造3、4及び5と、異なる屈折率を有する層6a及び6bを交互に有する分布型ブラッグ反射器と、を含む。層6a及び6bは、導電性を有し且つ装置の発光波長において透明な、p型導電性ポリマ材料により形成される。
請求項(抜粋):
光学的活性領域と、導電性ブラッグ反射器と、を備え、該ブラッグ反射器が、少なくとも部分的に、導電性を有するポリマ材料から形成されている、オプトエレクトロニクス半導体装置。
IPC (3件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 ,  C08L101/00
FI (3件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 ,  C08L101/00
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る