特許
J-GLOBAL ID:200903007845703973

パターン検査方法及びパターン検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 畑 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-171293
公開番号(公開出願番号):特開2001-005166
出願日: 1999年06月17日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 検査中に多数の欠陥を検出しても、検査動作を中断することなく検査を継続でき、生産性を向上させることが出来るパターン検査装置を提供する。【解決手段】 移動保持手段3上の被検査パターン9の画像データを生成する光学的手段4、5及び被検査パターンの画像情報を参照画像情報と比較して部分被検査パターンに欠陥が存在するか否かを判断する画像比較部71とが設けられ、画像比較部71には、部分被検査パターンの比較画像データを格納する比較画像情報記憶手段712、部分被検査パターンに対応する参照画像データを格納する参照画像情報記憶手段711及び/又は713、比較画像データと参照画像データとを比較して被検査パターンに欠陥が存在するか否かを判断する画像処理手段715とがあり、画像比較部71に於ける画像処理手段715が出力する部分被検査パターンの欠陥情報を順次格納する欠陥情報蓄積手段83を有し、欠陥情報蓄積手段83に格納されている欠陥情報を適宜のタイミングで出力するレビュー制御手段8とから構成されているパターン検査装置100。
請求項(抜粋):
半導体装置を製造するに際して使用される各種のパターンの欠陥を検出するに際し、被検査パターンを予め定められた数の区画に分割して、当該各区画毎に順次、当該区画に存在する部分被検査パターンに関する画像情報を光学的手段を介して取得する第1の工程、当該第1の工程に於て取得された当該部分被検査パターンに関する当該画像情報を、予め定められた複数個の画像比較部のそれぞれに設けられた比較パターン画像情報記憶手段に個別に格納する第2の工程、当該個々の画像比較部に設けられた画像処理手段に於て、当該比較パターン画像情報記憶手段に記憶されている当該部分被検査パターンに関する画像情報と予め当該画像比較部内に設けられた参照パターン画像情報記憶手段に記憶されている当該区画に於ける当該部分被検査パターンに対応する参照パターン画像情報(基準画像情報)とを比較する第3の工程、当該第3の工程に於て、当該部分被検査パターンに関する欠陥情報が存在する場合には、当該欠陥情報をレビュー制御部に設けられた欠陥情報蓄積手段に格納する第4の工程、当該欠陥情報蓄積手段に記憶されている当該所定の区画に於ける当該部分被検査パターンに関する欠陥情報を、所望の型式或いは所望のタイミングで出力する第5の工程、とから構成されている事を特徴とするパターン検査方法。
IPC (4件):
G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/027
FI (4件):
G03F 1/08 S ,  G01N 21/88 645 A ,  G06F 15/62 405 A ,  H01L 21/30 502 V
Fターム (24件):
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA20 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2H095BD04 ,  2H095BD20 ,  2H095BD25 ,  2H095BD27 ,  2H095BD29 ,  5B057AA03 ,  5B057BA19 ,  5B057CH11 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC33
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 画像処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-109485   出願人:株式会社ニコン
  • 特開平1-305477

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