特許
J-GLOBAL ID：200903007859605648
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071693
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061326
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】 将来のマルチチャンバ型装置での処理の高速処理に対応させ、この高速化を維持したまま、所定の頻度で処理後の基板の検査を敏速に行うことができるようにしたものを提供する。【構成】 複数の処理室2,3,4と、この各処理室2,3,4との間で基板の受渡しを行うハンドラ8を内部に配置したハンドラ室9とを有する基板処理装置において、前記ハンドラ室9に連通して所定の頻度で基板の抜取り検査を行う検査室15a,15bを備えるとともに、検査室15a,15bで行う前記基板の抜取り検査の頻度を検査室15a,15b内における最長の検査時間に対応させて設定したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
複数の処理室と、この各処理室との間で基板の受渡しを行うハンドラを内部に配置したハンドラ室とを有する基板処理装置において、前記ハンドラ室に連通して所定の頻度で基板の抜取り検査を行う検査室を備えるとともに、検査室で行う前記基板の抜取り検査の頻度を検査室内における最長の検査時間に対応させて設定したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, C23C 16/44
, H01L 21/68
