特許

J-GLOBAL ID：200903007859940730

パターン形成材料及びパターン形成方法

発明者： 高島 正伸
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-235814
公開番号（公開出願番号）：特開2008-058636
出願日： 2006年08月31日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

【課題】高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、I/O値が0.300〜0.650のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むパターン形成材料である。前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、 前記バインダーが、I/O値が0.300〜0.650のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むことを特徴とするパターン形成材料。

IPC (4件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  C08F 2/46

FI (6件)：

G03F7/028 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/033 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/004 501 ,  C08F2/46

Fターム (24件)：

2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA28 ,  2H025CA41 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB52 ,  2H025CB60 ,  2H025CC01 ,  2H025CC20 ,  4J011QC09 ,  4J011RA03 ,  4J011RA14 ,  4J011SA78 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 国際公開第01/071428号パンフレット
  
• 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性画像形成材料及び感光性画像形成材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-424180   出願人：三菱化学株式会社
• 残留物レベルの低い感光性組成物の連続液体処理のための方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-535969   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー