水素透過構造体、及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：上代哲司 , 神野直美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-107866
公開番号（公開出願番号）：特開2006-286537
出願日： 2005年04月04日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】水素透過性基材と酸化物プロトン導電性膜間の密着性に優れ、剥離が生じにくいとともに、短絡の問題も生じにくく、かつ電池出力等の発電性も良好な水素透過構造体、この水素透過構造体の製造方法、及びこの水素透過構造体を用いる燃料電池を提供する。【解決手段】水素透過性基材、及びその上に積層された酸化物プロトン導電性膜を有し、前記水素透過性基材の前記酸化物プロトン導電性膜側の表面が、プラトー部分を有し、表面の最大高さ(Ry)が0.3〜3.0μmであり、最大高さの70%の切断レベルにおける負荷長さ率(tp)が75%以上、99%以下であることを特徴とする水素透過構造体、及びその製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水素透過性基材、及びその上に積層された酸化物プロトン導電性膜を有し、前記水素透過性基材の前記酸化物プロトン導電性膜側の表面が、プラトー部分を有し、このプラトー部分の最大高さ(Ry)が0.3〜3.0μmであり、最大高さの70%の切断レベルにおける負荷長さ率(tp)が75%以上、99%以下であることを特徴とする水素透過構造体。

IPC (2件)：

H01M 8/02 , C01B 3/56

FI (2件)：

H01M8/02 K , C01B3/56 Z

Fターム (10件)：

4G140FA06 , 4G140FB09 , 4G140FC01 , 4G140FE01 , 5H026AA06 , 5H026BB00 , 5H026CX04 , 5H026EE02 , 5H026EE13 , 5H026HH03

引用特許：

審査官引用 (1件)

ブラスト加工条件の検査方法及び検査システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-308943 出願人：株式会社不二製作所

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