特許

J-GLOBAL ID：200903007869598925

プラズマ処理装置

発明者： 加治 哲徳 ,  藤井 敬 ,  吉開 元彦 ,  斉藤 剛
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立テクノエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-318901
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174995
出願日： 1991年12月03日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】マイクロ波を用いたプラズマ処理装置において、大口径の試料を均一に処理する。【構成】マイクロ波発振器からのマイクロ波を真空容器内に伝達するにあたり、真空容器内に円形導波管のTE0n(n:自然数)モードもしくはそれの類似モードのマイクロ波を発生させるモード発生手段を設ける。

請求項（抜粋）：

試料が配置される試料台を内部に有した真空容器と、前記真空容器内に処理用のガスを供給するガス供給手段と、前記真空容器内を所定圧力に真空排気する排気手段と、マイクロ波を発振するマイクロ波発振器と、前記マイクロ波発振器からのマイクロ波を前記真空容器内に伝達するマイクロ波導入手段と、前記真空容器内に円形導波管のTE0n(n:自然数)モードもしくはそれの類似モードのマイクロ波を発生させるモード発生手段とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  G01N 24/14 ,  G01R 33/64 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H01P 1/163