特許
J-GLOBAL ID：200903007871344310
デバイス製造方法およびこれに使用できる露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-034286
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223518
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 マスク1取り換えによる各マスクごとのバーニヤ描画誤差の影響を除き、多量のデータ管理を削減する。【解決手段】 基板上に形成された第1のパターン像に対してマスク上の第2のパターンを位置合せし、重ねて露光するデバイス製造方法であって、前記基板上には前記第1パターン像と一定の位置関係にある重ね合せ誤差検出用の第1のマーク像が形成されており、前記露光に際しては前記第1マーク像上に、前記第2パターンと一定の位置関係にある重ね合せ誤差検出用の第2のマークを同時に露光し、そして前記基板上の前記第1マーク像および第2マークの転写像間の位置関係に基づいて前記第1パターンおよび第2パターン間の重ね合せ誤差を検出するものにおいて、前記第2マークとして、前記マスクとは分離・独立した位置に設けられているものを用いることを特徴とするデバイス製造方法。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された第1のパターン像に対してマスク上の第2のパターンを位置合せし、重ねて露光するデバイス製造方法であって、前記基板上には前記第1パターン像と一定の位置関係にある重ね合せ誤差検出用の第1のマーク像が形成されており、前記露光に際しては前記第1マーク像上に、前記第2パターンと一定の位置関係にある重ね合せ誤差検出用の第2のマークを同時に露光し、そして前記基板上の前記第1マーク像および第2マークの転写像間の位置関係に基づいて前記第1パターンおよび第2パターン間の重ね合せ誤差を検出するものにおいて、前記第2マークとして、前記マスクとは分離・独立した位置に設けられているものを用いることを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 M
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 502 C
