特許
J-GLOBAL ID：200903007881176050
欠陥検査方法およびその装置並びに欠陥の観察または分析方法およびそのシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-049850
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251377
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】欠陥検査装置のステージ位置決め誤差やウエハ等の被検査基板の変形に起因する欠陥の位置座標の誤差を低減して欠陥の位置座標データを出力できるようにした欠陥検査方法およびその装置並びに欠陥の観察または分析方法およびそのシステム提供することにある。【解決手段】本発明は、被検査基板の表面状態を示す物理的な信号を処理して前記被検査基板内の複数の基準マークの位置座標を計測する基準マーク位置座標計測手段と、該基準マーク位置座標計測手段で計測された複数の基準マークの位置座標と該複数の基準マークの各々についての設定データに基づく座標系における位置座標との関係から非線形誤差を補正するためのパラメータを算出し、前記欠陥検査手段から出力される欠陥の位置座標について前記算出されたパラメータで非線形誤差を補正して設計データに基づく座標系に変換して出力する欠陥の位置座標変換手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置およびその方法である。
請求項（抜粋）：
設計データに基づいて被検査パターンと複数の基準マークとを形成した被検査基板の表面状態を物理的な信号として検出し、該検出される物理的な信号を処理して前記被検査パターンに存在する欠陥を検査して該欠陥の位置座標を出力する欠陥検査方法であって、前記物理的な信号を処理して前記被検査基板内の少なくとも1つ以上の前記基準マークの位置座標を計測し、前記欠陥の位置座標を、前記計測された基準マークの位置座標を用いて設計データに基づく座標系に変換して出力することを特徴とする欠陥検査方法。
FI (3件)：
H01L 21/66 A
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 P
