特許
J-GLOBAL ID:200903007889573228
真空チャック
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-275799
公開番号(公開出願番号):特開平9-134949
出願日: 1996年10月18日
公開日(公表日): 1997年05月20日
要約:
【要約】【課題】 多様な大きさの部品を真空を用いて固定させ、また、複数の区画が分割形成され、それぞれの区画に対する真空の形成が独立に行われ、さらに、部品の固定において真空の形成される区画と形成されない区画を自動的に制御し得ること。【解決手段】 ベースプレートと、ベースプレートの外周に所定の高さで形成された外壁33と、外壁33で取り囲まれた空間を複数の区画に形成するようにベースプレート上に形成され、外壁33と同一の高さを有する少なくとも一つの内壁33’と、各区画内に外壁33および内壁33’と同一の高さで形成された複数個の支持部32と、各区画内に少なくとも一つ以上設けられ、真空源に連結された真空吸込み口31とを含むことにより真空チャック30の区画を多様な大きさに設定して多様な大きさの部品を吸着固定させ得る。
請求項(抜粋):
ベースプレートと、前記ベースプレートの外周に所定の高さで形成された外壁と、前記外壁で取り囲まれた空間を複数の区画に形成するように前記ベースプレート上に形成され、前記外壁と同一の高さを有する少なくとも一つの内壁と、前記各区画内に少なくとも一つ以上設けられ、真空源に連結された真空吸込み手段と、を備えることを特徴とする真空チャック。
IPC (4件):
H01L 21/68
, B23Q 3/08
, G03F 9/00
, H01L 21/027
FI (4件):
H01L 21/68 P
, B23Q 3/08 A
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 503 C
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
特開平1-201936
-
ウェハステージ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-201560
出願人:株式会社東芝
-
特開昭63-216355
-
特開平1-201936
-
特開昭63-216355
全件表示
前のページに戻る