投影露光方法、これに使用される投影露光装置およびマスク

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-219345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177011
出願日： 1993年09月03日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】半導体装置のリソグラフィー工程中に使用される変形照明方法を利用した投影露光方法およびこれを使用した投影露光装置および前記露光装置に用いられるマスクを提供する。【構成】コンデンサレンズを通過した光の0次回折された垂直入射成分を取り除き、+/-1次に回折された光の傾斜成分を強化した後、パターンの形成されているマスクに前記斜入射成分の光を照明し被露光物を露光する。前記光の垂直入射成分は一定したパターンが規則的に形成されているグレーティングマスクにより光の位相差によって干渉され取り除かれる反面、1次に回折された光は強化される。【効果】これにより、コントラストが増加しリソグラフィー工程の解像度が改善され、焦点深度も増加する。64M DRAM級のパターンを従来の投影装置で形成できる。

請求項（抜粋）：

マスクを利用した投影露光方法において、光源から照射された光が垂直成分を取り除き斜入射光を発生する段階と、前記斜入射光をマスクに照射し被露光物を露光する段階とを含むことを特徴とする投影露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 501 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平4-343215
投影露光装置用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-197457 出願人：日本電信電話株式会社

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