特許
J-GLOBAL ID:200903007914697891
エッチング方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡本 啓三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-030551
公開番号(公開出願番号):特開平7-240403
出願日: 1994年02月28日
公開日(公表日): 1995年09月12日
要約:
【要約】【目的】ウエットエッチングにより膜厚の厚い金属膜をエッチングする方法に関し、サイドエッチングを抑制し、パターン精度を悪化させることなく、膜厚の厚い一種類の金属膜又は2層以上の異種金属膜をウエットエッチングする。【構成】複数回のエッチングにより被エッチング体12を選択的にエッチングする方法であって、一のエッチング後にエッチング跡14a,14bの被エッチング体12の側壁16a,16bを耐エッチング性膜17a,18aで保護した後次のエッチングを行う。
請求項(抜粋):
複数回のエッチングにより被エッチング体を選択的にエッチングする方法であって、一のエッチング後に前記エッチング跡に露出する前記被エッチング体の側壁を耐エッチング性膜で保護した後次のエッチングを行うことを特徴とするエッチング方法。
IPC (5件):
H01L 21/3065
, C23F 1/00
, C23F 4/00
, H01L 21/306
, H05K 3/06
FI (2件):
H01L 21/302 J
, H01L 21/306 F
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