特許
J-GLOBAL ID：200903007950650524
酸化チタン薄膜の形成方法
出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社
セントラル硝子株式会社 について
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-158222
公開番号（公開出願番号）：特開平11-011981
出願日： 1997年06月16日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】 高品質な酸化チタン被膜を、基体表面に高速、高収率、かつ安定して連続的に被覆できるようにすること。【解決手段】 有機チタン化合物、チタン塩化物および/またはそれらの複合化合物からなる非キレートチタン化合物を出発原料として、基体表面に酸化チタン被膜を析出させる方法において、1モルの非キレートチタン化合物に対し0.02〜1.5モルの割合のキレート結合し得る化合物を準備し、両化合物混合蒸気をキャリアーガスによって基体表面に導く過程で反応せしめ、更に基体表面上において、該化合物を分解するとともに、基体表面に酸化チタンを析出させる。
請求項（抜粋）：
有機チタン化合物、チタン塩化物、および/またはそれらの複合化合物からなる非キレートチタン化合物を出発原料として、基体表面に酸化チタン被膜を析出させる方法において、1モルの非キレートチタン化合物に対し0.02〜 1.5モルの割合のキレート結合し得る化合物を準備し、両化合物の混合蒸気をキャリアーガスによって基体表面に導く過程で反応せしめ、更に基体表面上において、該化合物を分解するとともに、基体表面に酸化チタンを析出させることを特徴とする酸化チタン薄膜の形成方法。
IPC (5件)：
FI (5件)：
引用特許：
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